7月11日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”）宣布，公司在针对美国半导体设备大厂泛林集团（Lam Research Corporation，又称“科林研发”）提起的侵犯商业秘密案中赢得二审胜诉。

　　在上海市高级人民法院2023年6月30日的终审判决中，法院命令泛林集团销毁其非法获取的与中微公司等离子刻蚀机有关的一份技术文件和两张照片。法院还禁止泛林集团及泛林集团的两名个人被告披露、使用或允许他人使用中微公司的专有的技术秘密。法院还命令泛林集团为其侵犯商业秘密向中微公司支付赔偿金和法律费用。

　　中微公司曾于2010年12月向上海市第一中级人民法院提起诉讼，主张泛林集团侵犯中微公司的商业秘密。

　　具体来说，中微公司当时主张泛林集团在数年前非法获取了中微公司机密的技术文件和机密的反应腔内部照片。中微公司还主张泛林集团安排其技术专家在证据保全时不恰当地察看和测量中微刻蚀机的内部结构，然后使用获取的信息于2009年1月向台湾智慧财产法院起诉中微专利侵权，试图影响中微产品进入台湾市场。

　　资料显示，2009年1月，泛林集团指控中微公司型号为 Primo D-RIE 的等离子蚀刻机侵害它的台湾 TW136706“电浆反应器中之多孔的电浆密封环”和 TW126873“于电浆处理室中大量消除未局限电浆之聚焦环配置 ”。并在在台湾发起了针对中微公司台湾分公司及其关联企业的侵权诉讼。

　　随后，中微公司以事实回应泛林的指控并指出泛林所提出的被侵权的根本就是无效的。2009年6月，泛林公司除了仅保留与 TW136706相关的部分侵权主張外，撤回了它其他大多数的侵权主張。台湾智慧财产法院法官在听取双方针对有效性问题辩论后，基于不需要更进一步的調查关于侵权的争议点，在2009年9月8日驳回了该案，并认定泛林集团主张遭到侵害的是无效的。

　　这个胜利对中微公司意义重大，并保证了中微公司能够持续在台湾市场布局和推广其技术的产品。

　　中微公司董事长兼首席执行官尹志尧博士表示：“中微公司极度重视自主创新和知识产权保护。我们在研发方面大量投入，致力于为我们的全球客户带来创新性的技术和解决方案。与此同时，我们全力保护我们的专有技术与知识产权，我们不容忍侵犯公司商业秘密或其他不光彩的行为。本次终审的胜诉判决，再次凸显了中微公司保护自身权益的决心，也展示了监管部门对国内外市场主体一视同仁的公正立场。”

　　值得一提的是，在数年前，中微公司在与美国半导体设备厂商Veeco的相关专利侵权诉讼当中也获得胜利。

　　中微公司于2017年7月13日向福建省高级人民法院正式起诉维易科精密仪器国际贸易（上海）有限公司（以下简称“Veeco上海”）专利侵权，申请对Veeco上海发布永久禁令，要求禁售相关侵权的MOCVD设备，以及在该等MOCVD设备中使用的基片托盘，并赔偿中微经济损失1亿元人民币以上。

　　随后，Veeco上海向国家知识产权局专利复审委员会（以下简称“专利复审委”）提交专利无效宣告请求，主张中微专利无效。另外，还有一位自然人也对该涉案专利提起了无效宣告请求。针对两个请求，专利复审委先后分别开庭审理，并于2017年11月24日驳回了两个无效宣告请求，确认中微专利有效。

　　2017年12月8日，中国福建省高级人民法院同意了中微公司针对Veeco上海禁令申请，该禁令立即生效执行，不可上诉。

　　据中微半导体官网介绍，刻蚀是半导体器件制造中选择性地移除沉积层特定部分的工艺。在半导体器件的整个制造过程中，刻蚀步骤多达上百个，是半导体制造中最常用的工艺之一。

　　中微公司专注于研发干法刻蚀（等离子体刻蚀）设备，用于在晶圆上加工微观结构。干法刻蚀通过等离子释放带正电的离子来撞击晶圆以去除（刻蚀）材料。根据所要去除材料和加工器件结构的不同，可分为电介质刻蚀、导体刻蚀和硅通孔刻蚀。

　　新电子材料的集成和加工器件尺寸的不断缩小为刻蚀设备带来了新的技术挑战，同时对性能的要求（刻蚀均匀性、稳定性和可靠性）越来越高。中微公司凭借一系列刻蚀设备组合处于刻蚀创新技术的前沿，帮助芯片制造商加工10纳米、7纳米甚至5纳米及更先进的微观结构，具有成本优势。

　　中微公司自主研发生产的刻蚀设备已被众多领先客户的芯片生产线所采用，用于制造先进的半导体器件，以推动人工智能、机器学习和机器人技术的发展。这些半导体器件还能提供逻辑和存储器，以应用于消费者电子产品、5G网络、功能强大的服务器、自动驾驶汽车、智能电网等领域。

　　关键字：编辑：王兆楠 引用地址：中微半导体诉美国半导体厂商侵犯刻蚀机商业秘密案，终审胜诉！

　　11月2日，有机金属化学汽相沉积系统(MOCVD)设备大厂美国维易科(Veeco)宣布，美国纽约东区地方法院同意了Veeco公司针对SGL Carbon，LLC(SGL)的一项初步禁令请求，该公司是中微半导体设备有限公司(AMEC)的晶圆承载器供应商。据统计，目前国内前三大LED芯片厂商今年采购的机台里，Veeco和中微半导体各占一半。业内人士评论称，此次禁令可能会让中微损失不少。 该禁令禁止SGL出售供采用了Veeco专利技术的无基座金属有机化学气相沉积系统(MOCVD)使用的晶圆承载器，包括专为AMEC MOCVD系统设计的晶圆承载器。 Veeco公司董事长兼首席执行官John R. Peeler说：“这项裁决肯定

　　今年投资市场最为隆重的事情，莫过于科创板的设立。 从提出概念到正式开板再到第一股上市申购，只用了短短几个月的时间。 在科创板上市的第一家公司是华兴源创，这是一家以手机、平板电脑的面板检测为主营业务的公司，大客户是苹果，公司的大多数营收都来自苹果及其供应链企业。 尽管如此，公司还是竭尽全力的在招股书里提到芯片概念，一再声称自己是做芯片的。虽然公司在芯片业务领域充满了激情和设想，但毕竟落地的核心业务还是面板检测。 几乎在华兴源创发行的同时，6月26日，一家真正的芯片企业提交了科创板IPO注册申请。不出意外的话，它将成为第一个芯片概念的科创板上市公司。它就是中微半导体（股票简称：中微公司）。 一、中微半导体是做什么的

　　如何成为首个芯片概念的科创板上市公司？ /

　　这事没法“低调” 中微半导体设备（上海）股份有限公司（下简称“中微”）董事长兼CEO尹志尧在网络上有两个身份，一个是“打破格局！颠覆核心技术！外企独霸的时代宣告结束！！巨头们彻夜无眠！”的震惊式“王炸”，一个是“埋头苦干，恳求媒体务实报道的”中国芯工程师。 前者，是去年媒体对尹志尧博士受访时一句“5纳米今年年底基本上就要定了，现在进展特别快”的疯狂渲染，所意淫出的一个宇宙级战士。后者，则是尹志尧博士口中的自己。 尹志尧（图片来源：红网） 在如今感叹号已经不值钱的年代，对中国半导体产业颇有贡献的尹志尧，真实的样子是什么呢？笔者将从官方介绍和相关专访资料中还原出来。 尹志尧出生于1944年，中学就读于久负盛名的北京

　　企业的机会 /

　　近日，泛林集团推出三款开创性的选择性刻蚀产品： Argos®、Prevos™和Selis®。 这些突破性产品旨在补充和扩展泛林集团行业领先的刻蚀解决方案组合，使芯片制造商能够以超高的 选择性和埃米级的精度刻蚀和修改薄膜 ，以实现最先进的 集成电路(IC)性能并加速其3D路线图。 在我分享泛林集团特有的选择性刻蚀方法之前，让我们先来了解一下，在3D时代创造下一代芯片所面临的复杂挑战。 对精度的需求 微缩 （即缩小芯片中的微小器件，如晶体管和存储单元）从来都不是容易的事情，但要想让下一代先进逻辑和存储器件成为现实，就需要在原子级的尺度上创造新的结构。当处理这么小的维度时，可以变化的空间微乎其微。 更为复杂

　　推出开创性的选择性刻蚀解决方案 /

　　泛林集团作为创始成员加入全球半导体气候联盟，继续向净零排放目标迈进 北京时间2022年11月7日——泛林集团近日宣布，公司的短期温室气体减排目标已获得科学碳目标倡议组织 (Science Based Targets Initiative, SBTi) 的批准。 该组织由全球环境信息研究中心、联合国全球契约、世界资源研究所和世界自然基金会联合组成，泛林集团是第一家获得这一重要批准的美国半导体设备制造商。此外，SEMI 同期也宣布，泛林集团还与其他芯片行业领导者一起成立了全球半导体气候联盟。 泛林集团首席传播官Stacey MacNeil 表示：“今天能够达成这一里程碑，体现了公司致力于推动半导体行业可持续发展的承诺。

　　的减排目标被科学碳目标倡议组织批准 /

　　因 10nm 制程遭遇前所未有的挑战，故全球半导体产业纷纷将重要资源投入在 7nm 制程上，台积电、三星、GlobalFoundries、英特尔均已开始布局。据台媒报道，目前台积电的 7nm 布局最积极，近期台积电更是转变了 7nm 制程设备的采购策略，将应用材料( Applied Materials )、科林研发( LAM ) 、东京威力科创( TEL )、日立先端( Hitach )、中微半导体 5 大设备商均纳入采购名单，致力平衡 7nm 制程设备商生态价格。 值得注意的是，中微半导体是唯一进入台积电 7nm 制程蚀刻设备的大陆本土设备商。据悉，中微与台积电在 28 nm 制程时便已开始合作，并一直延续到

　　天眼查显示，上海理想万里晖薄膜设备有限公司（理想万里晖）日前发生工商变更，理想能源设备（上海）有限公司退出股东行列，新增中微半导体设备（上海）股份有限公司（中微公司）等股东。另外，该公司的注册资本由8455.3348万人民币增至1.46亿人民币，增幅为73.17%。 图源：天眼查 据悉，中微公司的持股比例微3.85%，出资563.689万元。 公开资料显示，理想万里晖于2013年5月21日在自贸区市场监督管理局登记成立。法定代表人孙曦东，公司经营范围包括薄膜、光伏电池、平板显示屏生产专用设备的研究等。 中微公司是我国集成电路设备行业的领先企业，目前开发的产品以集成电路前道生产的等离子体刻蚀设备、薄膜沉积设备等关键设备为主，并已

　　设备商理想万里晖 /

　　美国加利福尼亚州弗里蒙特市2016年11月14日电 /美通社/ -- 全球领先的半导体制造设备及服务供应商泛林集团近日邀请了来自中国大陆和台湾的 泛林集团微电子论文奖 获奖学生代表及专家学者前往泛林集团美国总部进行参观访问并开展学术交流。 泛林集团邀请优秀学生代表及专家学者赴美国总部参观交流 此次受到邀请的是来自清华大学、复旦大学、西安交通大学、哈尔滨工业大学，以及台湾顶尖大学的5名优秀学生代表。同时被邀请的还有清华大学微电子研究所所长魏少军教授以及台湾纳米技术研究所相关负责人。泛林集团总裁兼首席执行官Martin Anstice，亚太区总裁廖振隆，以及集团高层领导接待了学生代表和领队专家，并参与了学术研讨

　　邀请优秀学生代表及专家学者赴美国总部参观交流 /

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